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行業概述

半導體制造涉及一系列不同工藝步驟，在半導體的制造工藝中，器件的不良率很大程度由污染造成。在超純水、電子化學品、電子特氣、硅片等各個環節，均需進行嚴格的環境污染管控及污染物檢測。如果您需要測量半導體制造中所用化學品中的金屬雜質，或者測試硅晶片或最終元件中的金屬污染物，萊伯泰科為您提供靈敏、穩定、強健的分析方法滿足您的需求。萊伯泰科為半導體行業中各種樣品的痕量元素分析提供解決方案，這些樣品包括單晶硅片、太陽能光伏硅片、高純制程化學品、超純水、有機試劑和光阻材料等。萊伯泰科的研發和技術支持團隊提供了專門用于滿足半導體行業需求的單四極桿和串聯四極桿 ICP-MS 系統。

行業解決方案

多晶硅基體金屬雜質檢測

電子級多晶硅金屬雜質含量是評價其產品質量的重要指標之一，其雜質含量的高低直接影響下游晶圓制造產品質量，所以對其金屬雜質含量的控制至關重要。萊伯泰科提供可靠、易用的 ICP-MS產品，擁有良好的精度，可實現多晶硅金屬元素雜質準確分析，確保制造商始終能夠生產出高品質的產品。

硅片表面金屬雜質檢測

硅片是半導體制造業的基礎材料，硅片表面極其少量的金屬雜質元素污染都可能造成器件的功能喪失或者可靠性變差，隨著半導體制程的不斷提高，對金屬離子污染物的控制也越來越嚴格。萊伯泰科提供了融合穩定、可靠、高靈敏度的ICP-MS產品，幫助半導體制造商在生產過程中執行檢測并減少污染，即使在高基質環境下，也可對晶圓制造的每個階段中的金屬雜質類型、來源和含量進行準確的檢測。此外，萊伯泰科的經驗豐富的工程師們將作為硅片生產企業及Fab工廠的堅實后盾，提供多方位技術支持。

濕電子化學品金屬雜質檢測

在半導體工業中，嚴格控制半導體器件生產過程中所使用的濕電子化學品中的金屬雜質，對于實現所需的產品性能和產量至關重要。隨著半導體器件性能的持續提高，對雜質的控制要求也更加嚴格。萊伯泰科研發生產的穩定、可靠的ICP-MS產品，可為濕電子化學品金屬雜質含量檢測提供有效手段。

金屬污染物在線監測

萊伯泰科的 ICP-MS 產品可與多家供應商的自動化在線半導體制程化學品監測系統集成。在化學品供應中心、分配過程以及使用過程中，對制程化學品中的金屬雜質進行監測。實時在線監測能夠在工藝的各階段迅速檢測到金屬污染，從而完成快速評估正等待從貯罐卸載的化學品的質量的檢測和生產需求。

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